膜厚计———广州景颐光电科技有限公司是一家专门做膜厚仪的厂家
光学薄膜测厚仪的工作原理及其使用优点
随着科技社会发展，光学的应用也越来越广泛，膜厚测厚仪行业发展也越来越好。其中就有大众所知的光学膜厚测量仪。它利用光学的特点，能够直接检测出物体透明或者半透明涂层的厚度。
光学膜厚测量仪所利用的工作原理，便是光的折射与反射。接下来详细说说光学薄膜测厚仪的工作原理及其使用优点。
这种仪器在测量时，摆放在被测件的上方，反射膜厚计，从仪器的测头部分发射出垂直向下的可视光线。其中一部分光会在膜的表面形成反射，另一部分则会透过被测试的薄膜，在薄膜与衬底之间的界面形成反射，薄膜表面以及薄膜的底部同时反射的光会造成干涉的现象。仪器便是利用了这一现象，从而测量出薄膜的厚度。
厚度的测量看似简单，实测上所利用的光反射原理，却是需要经过一系列的设计才能达到如此理想状态。如此光学膜厚测量仪的使用，便也有着其它传统测厚仪所没有的优点。
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膜厚测试仪的基本工作原理
膜厚仪又叫膜厚测试仪，符合了（GB/T 4957-2003）中的涡流法以及（GB/T 4956-2003）中的磁性法等相关标准。
其中涡流测厚的原理，是利用高频交变电流在线圈中产生的电磁场，当测头和覆盖层接触时，金属基体上就会产生电涡流。并且会对测头中的线圈产生了反馈的作用，然后通过测量反馈作用的大小来导出覆盖层的厚度。
涡流测厚原理的膜厚仪，淮安膜厚计，适用于非磁性金属基体上（铜、铝、黄铜等）非导电涂层的测量（如涂料、阳极氧化层等）。如航天航空器表面、车辆等及其它铝制品表面的油漆，阳极氧化膜等。
而磁性测厚的原理，是当测头和覆盖层接触时，测头和磁性金属基体构成的一闭合磁路，由于非磁性覆盖层的存在，会使磁路磁阻发生变化，根据变化就可以测出涂层的厚度。
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膜厚测量仪测量的基本原理
在膜厚测量仪中，比较流行的测量原理就是电涡流测量原理，我们一起来对电涡流测量原理进行比较详尽的学习，高频的交流信号一般会在侧头线圈中产生一定的电磁场，当测试的探头靠近导体的时候，就会在它的附加产生涡流。
如果测试探头离导体的基体越近，它的涡流就会越大，反射阻抗肯定也会更大。事实上，分光膜厚计，这是一个反馈作用的过程，这个过程中表征了测试探头与导电基体之间距离的大小，换句话说，这就是导体导电基体上非导电覆层厚度的大小。
采用电涡流测试的原理，原则上需要对导体上的非导电体覆盖层均可以进行测量，技术人员告诉我们，覆层材料是有一定的导电性的，通过校准也是可以同时进行测量的，不过在这其中，有一个比较明显的要求就是两个的导电率是相差3到5倍左右。
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